濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域
發(fā)布時(shí)間：2020-09-09 瀏覽：4060次
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濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是物理氣相沉積(PVD)主要方法之一,它用于在表面沉積具有某種特殊功能的薄膜。
濺射靶材的主要應(yīng)用于平板顯示鍍膜、半導(dǎo)體鍍膜，玻璃鍍膜、太陽(yáng)能電池鍍膜、裝飾鍍膜等。
洛陽(yáng)辰駿鎢鉬科技有限公司可以提供下列高質(zhì)量的靶材
鎢靶，鉬靶，鉬鈮合金靶材，鈮靶，鉻靶，鈦靶，鉭靶。
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