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鎢鉬材料在離子植入設(shè)備中的應(yīng)用

在現(xiàn)代集成電路制造中，離子植入是一項(xiàng)非常重要的技術(shù)，其基本原理是：用能量為100keV量級(jí)的離子束入射到材料中去，離子束與材料中的原子或分子將發(fā)生一系列物理的和

發(fā)布日期：2024-07-26　瀏覽量：5744

濺射靶材的應(yīng)用領(lǐng)域

濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是物理氣相沉積(PVD)主要方法之一,它用于在表面沉積具有某種特殊功能的薄膜。濺射靶材的主要應(yīng)用于平板顯示鍍膜、半導(dǎo)體鍍膜，玻

發(fā)布日期：2024-07-08　瀏覽量：4060

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